Torna ai risultati della ricercaBando per assegno di ricerca
| Titolo del progetto di ricerca in italiano | Attività sperimentale di fabbricazione di film sottili, con tecniche di sputtering a radio-frequenza e sol-gel, e caratterizzazione di strutture dielettriche a selezione spettrale |
|---|---|
| Titolo del progetto di ricerca in inglese | Experimental activity about thin film fabrication and characterization of dialectric structures with spectral selection, obtaining by RF-sputtering and sol gel techniques |
| Campo principale della ricerca | Physics |
| Sottocampo della ricerca | Other |
| Area CUN | 02 - Scienze fisiche |
| S.S.D | FIS/01 - FISICA SPERIMENTALE |
| Descrizione sintetica in italiano | Fabbricazione di strutture fotoniche selettive in spettro, mediante deposizione di multistrati di film sottili di materiali ossidi dielettrici (ad esempio, ma a titolo non limitativo: SiO2, TiO2 e WO3), tramite tecnica di sputtering a radio-frequenza e sol-gel e successivi trattamenti termici. Conduzione dell’apparato di sputtering a radio-frequenza e delle tecniche sperimentali collegate alla realizzazione dei componenti ottici. Tecniche di caratterizzazione ottiche, spettroscopiche, morfologiche e strutturali. |
| Descrizione sintetica in inglese | Fabrication of photonic structures spectrally selective, by depositing multilayers of thin films of dielectric oxide materials (for example, but not limited to: SiO2, TiO2 and WO3), by means of radio-frequency and sol-gel sputtering and subsequent techniques thermal treatments. Conduction of the radio-frequency sputtering apparatus and experimental techniques related. |
| Data del bando | 16/07/2021 |
| Numero di assegnazioni per anno | 1 |
| Stanziamento annuale (indicativo) | 22000 |
| Periodicità | 12 mesi |
| E' richiesta mobilità internazionale? | yes |
| Paesi in cui può essere condotta la ricerca |
Italy |
| Paesi di residenza dei candidati |
OTHER |
| Nazionalità dei candidati |
OTHER |
| Sito web del bando | https://bandi.urp.cnr.it/assegni/faces/pubblica/CercaAssegniPubblica.jsp |
| Destinatari dell'assegno di ricerca (of target group) |
Experienced researcher or 4-10 yrs (Post-Doc) |
|---|---|
| Il contratto prevede la copertura delle prestazioni sociali? | yes |
| Importo annuale | 22000 |
| Valuta | Euro |
| Comprende lo stipendio dell'assegnista | yes |
| Comprende vitto e spese di viaggio | no |
| Comprende il costo della ricerca | no |
| Altri costi in italiano | Le spese per la ricerche saranno coperte da IFN CNR |
| Altri costi in inglese | The research expenses will be covered by IFN CNR |
| Massima durata dell'assegno (mesi) | 12 |
| Criteri di selezione in italiano (breve descrizione) |
Titoli richiesti: Laurea in Fisica dei Materiali, o Scienza dei Materiali, o Ingegneria dei Materiali, o Ingegneria Fisica, o Chimica, o affini, conseguito secondo la normativa in vigore anteriormente al D.M. 509/99, oppure della Laurea Specialistica/Magistrale (D.M. 05/05/04); b) Dottorato di Ricerca in Fisica, o Scienza e Tecnologia dei Materiali, o Scienza e Ingegneria dei Materiali e delle Nanostrutture, o Scienze Molecolari (CV: Scienze chimiche), o affini. c) Curriculum di studi e professionale idoneo allo svolgimento di attività di ricerca oggetto del bando; d) Competenza in tecniche di deposizione di film sottili per applicazioni ottiche, con riferimento preferenziale alla tecnica di sputtering a radio-frequenza e alla tecnologia sol-gel spin-coating; e) Competenza in tecniche di caratterizzazioni ottiche, spettroscopiche, morfologiche e strutturali di sistemi inorganici e dielettrici; f) Conoscenza verificata della lingua italiana o della lingua inglese. |
| Criteri di selezione in inglese (breve descrizione) |
Titles requested: Master Degree in Material Physics, or Material Science or Material Engineering or Physics Engineering or Chemistry, or similar disciplines, or an equivalent foreign qualification; b) To hold a PhD in Physics, or Material Technology, or Science and Engineering of Materials and Nanostructures, or Molecular Sciences (CV in Chemical Sciences), or similar, as defined by D.M. 509/99 and D.M May 5, 2004, or an equivalent foreign qualification; c) Studies about materials and solid state physics, physical chemistry, optics, photonics; d) Competences about techniques for thin film deposition, especially by radio-frequency sputtering and sol-gel spin-coating; e) Competences in optical, morphological and structural characterizations of inorganic and dielectric systems; f) Previous experience on research activities involved in the Project; g) Certification, or self-certification of the level of knowledge of English language. |
| Processo di selezione in italiano (breve descrizione) | Una Commissione nominata dal Direttore valutera' i titoli dei candidati. I candidati ammessi saanno sottoposti ad un colloquio. |
| Processo di selezione in inglese (breve descrizione) | A Committee will evaluate the titles of the candidates; the candidates admittd will be submitted to an interview. |
| Nome dell'Ente finanziatore | Istituto di Fotonica e Nanotecnologie del CNR |
|---|---|
| Tipologia dell'Ente | Public research |
| Paese dell'Ente | Italy |
| Città | MILANO |
| Codice postale | 20133 |
| Indirizzo | p.za Leonardo da Vinci 32 |
| Sito web | http://www.ifn.cnr.it |
| ida.ruffoni@ifn.cnr.it | |
| Telefono | 390223996083 / 39338230591 |
| L'assegno finanziato/cofinanziato attraverso un EU Research Framework Programme? | No |
|---|
| Data di scadenza del bando | 31/08/2021 |
|---|---|
| Come candidarsi | protocollo.ifn@pec.cnr.it / ida.ruffoni@ifn.cnr.it |